Michael A.Lieberman/著 -- 丸善 -- 2010.1 -- 427.6

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所蔵館 所蔵場所 請求記号 資料コード 資料区分 帯出区分 状態
本館 書庫G /427.6/リバ/ 321606568 一般 利用可 在庫

資料詳細

タイトル プラズマ/プロセスの原理 
言語 日本語
著者 Michael A.Lieberman /著, Allan J.Lichtenberg /著, 堀 勝 /監修, 佐藤 久明 /訳  
出版者 丸善
出版年 2010.1
ページ数 29,612p
大きさ 26cm
一般件名 プラズマ物理学
NDC分類(9版) 427.6
内容紹介 半導体製造装置において使用される弱電離、非平衡プラズマに焦点を絞り、プラズマとプラズマ・プロセスに関する解析方法を基礎から応用まで原理的、解析的、系統的に解説。また、解析結果の適用方法を、多くの例題で提示。
ISBN 4-621-08223-2
著者紹介 カリフォルニア大学大学院バークレー校電気工学科教授。